IPU og DTU kan blandt andet tilbyde kemisk karakterisering af materialer og overflader med Glow Discharge Optical Emission Spectroscopy (GD-OES). Denne metode giver en række fordele, såsom:

• Både overflader og bulk kan analyseres med dybdeprofiler.
• Metoden kan analysere for op til 43 elementer på én gang, bl.a. brint, kul, ilt, kvælstof, klorid - men også alle metallerne.
• Analyserne er hurtige (1-10 μm/min).
• Det er muligt at analysere relativt tykke lag på op til 0,15 mm.
• Alle elektrisk ledende materialer kan analyseres.

Kontakt  for mere information

GD-OES analyse foregår ved RF-sputtering af overfladen med argon. De løsrevne atomer exciteres og der gennemføres optisk emissionsspektroskopi på dem. Dette muliggør identificering og kvantificering af de enkelte grundstoffer. Udstyret, der er det eneste i Danmark, dækker et meget bredt spektrum fra 110-620 nm, hvilket også muliggør analyse af meget lette grundstoffer som f.eks. hydrogen.

På øverste billede viser princippet ved RF-sputtering af materialer og efterfølgende emissionsspektroskopi. Nederste billede viser et krater der er dannet efter sputtering. Analyseområdet er enten 2 eller 4 mm i diameter.